教學進度 |
課程名稱 | 半導體工程 |
部別學制系科 | 進修部,二技,電機工程系 |
學分時數 | 選修,學分 3.0,時數 3.0 |
分類 | 分類代號 L,分類名稱:專業選修 |
代號與教師 | 開課代號:NEE3096A307,任課教師:謝式釗 |
相關網址 | |
評分準則 | 平時成績 30%,期中考評 30%,期末考評 40% (僅做參考) |
系統備註 | 「授課進度」... 等,教師已確認 |
週次 起訖日 |
校務摘要 | 課程進度 |
一 970907 970913 |
8日上午舊生註冊後第三節正式上課 8日進修部舊生註冊後第二節上課 |
尊重智慧財產權 課程介紹;評分方式說明 |
二 970914 970920 |
14日中秋節 17日期初教務會議 |
積體電路製造概述 |
三 970921 970927 |
原子結構與量子力學 | |
四 970928 971004 |
28日教師節 | 能帶與電流載子 |
五 971005 971011 |
第一次月考週 10日國慶日放假 |
載子濃度 |
六 971012 971018 |
載子運動過程 | |
七 971019 971025 |
PN接面二極體 | |
八 971026 971101 |
PN接面二極體 | |
九 971102 971108 |
3~7日期中考週 8日校慶 |
期中考 |
十 971109 971115 |
10日校慶補假 12日期中教務會議 |
金氧半場效電晶體 |
十一 971116 971122 |
20日校務會議 | 金氧半場效電晶體 |
十二 971123 971129 |
晶體成長及磊晶 | |
十三 971130 971206 |
薄膜形成 | |
十四 971207 971213 |
第二次月考週 | 薄膜形成 |
十五 971214 971220 |
微影技術 | |
十六 971221 971227 |
25日行憲紀念日 | 蝕刻 |
十七 971228 980103 |
1日開國紀念日放假 | 雜質摻雜 |
十八 980104 980110 |
5~9日期末考週 | 期末考 |