教學進度 |
課程名稱 | 半導體製程 |
部別學制系科 | 進修部,二專,電子工程科 計算機工程組 |
學分時數 | 選修,學分 3.0,時數 3.0 |
分類 | 分類代號 D,分類名稱:校訂選修 |
代號與教師 | 開課代號:NEC2094B421,任課教師:倪明海 |
相關網址 | |
評分準則 | 平時成績 30%,期中考評 30%,期末考評 40% (僅做參考) |
系統備註 | 「授課進度」... 等,教師已確認 |
週次 起訖日 |
校務摘要 | 課程進度 |
一 960225 960303 |
26日上午註冊,下午正式上課。 26日進修部註冊第二節上課 28日和平紀念日放假。 |
Syllabus & Topic Introductions |
二 960304 960310 |
Photolithography processes a)composition of photoresistor b)sequences of photolithography processes | |
三 960311 960317 |
Photolithography processes c)preparation processes d)Exposure | |
四 960318 960324 |
Photolithography processes e)development f)security | |
五 960325 960331 |
第一次月考週。 | Plasma a)working principles of plasma |
六 960401 960407 |
5日民族掃墓節放假。 | Plasma b)Physical structure of a palsma system |
七 960408 960414 |
Plasma c)Applications in semiconductor manufacturing | |
八 960415 960421 |
Ion implantation a)Working principles | |
九 960422 960428 |
23~27日期中考週。 | Mid-term exam |
十 960429 960505 |
Ion implantation b)Applications c)hardwares of ion implantation | |
十一 960506 960512 |
Ion implantation d)Security e)technology trends | |
十二 960513 960519 |
Etching a)Working principles | |
十三 960520 960526 |
24日校務會議 | Etching b)Mechanism of etchig |
十四 960527 960602 |
28~1日畢業考試。 第二次月考週。 |
Final exam |
十五 960603 960609 |
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十六 960610 960616 |
16日畢業典禮。 | |
十七 960617 960623 |
19日端午節放假 | |
十八 960624 960630 |
25~29日期末考週。 |