教學進度 |
課程名稱 | 半導體概論 |
部別學制系科 | 日間部,五專,機電工程科 |
學分時數 | 選修,學分 2.0,時數 2.0 |
分類 | 分類代號 D,分類名稱:校訂選修 |
代號與教師 | 開課代號:DMT1105A815,任課教師:劉漢忠 |
相關網址 | |
評分準則 | 平時成績 30%,期中考評 30%,期末考評 % (僅做參考) |
系統備註 | 「授課進度」... 等,教師已確認 |
週次 起訖日 |
校務摘要 | 課程進度 |
一 1090223 1090229 |
25日開學 上午註冊第三節正式上課 28日和平紀念日 |
宣導尊重智慧財產權,不使用影印本教科書,自編教材應引用合法授權來源。 |
二 1090301 1090307 |
半導體產業簡介 | |
三 1090308 1090314 |
半導體製造流程 | |
四 1090315 1090321 |
17日 期初教務會議 | 半導體製造流程與設備簡介 |
五 1090322 1090328 |
第一次月考週 | 半導體製造流程與設備簡介 |
六 1090329 1090404 |
4日婦幼節清明節 | 半導體工廠廠務系統 |
七 1090405 1090411 |
6日期中教學評量開始 | 半導體工廠廠務系統 |
八 1090412 1090418 |
17日期中教學評量結束 | 先進自動化工廠運作 |
九 1090419 1090425 |
期中考週 | 期中考 |
十 1090426 1090502 |
先進自動化工廠運作 | |
十一 1090503 1090509 |
真空系統簡介 | |
十二 1090510 1090516 |
離子佈值技術(DIF) | |
十三 1090517 1090523 |
黃光顯影技術 (LIT) | |
十四 1090524 1090530 |
第二次月考週,畢業考週 | 蝕刻技術(ETC) |
十五 1090531 1090606 |
先進晶圓平坦化技術(CMP) | |
十六 1090607 1090613 |
8日期末教學評量開始 | 化學氣相沉積技術(CVD) |
十七 1090614 1090620 |
17日期末教學評量結束 17日校務座談 |
物理氣相沉積技術(PVD) |
十八 1090621 1090627 |
期末考週 25日端午節 |
期末考 |