教學進度 |
課程名稱 | 半導體製程規劃 |
部別學制系科 | 日間部,四技,工業工程與管理系 |
學分時數 | 選修,學分 2.0,時數 2.0 |
分類 | 分類代號 L,分類名稱:專業選修 |
代號與教師 | 開課代號:DIE4098A302,任課教師:陳烈 |
相關網址 | |
評分準則 | 平時成績 30%,期中考評 30%,期末考評 % (僅做參考) |
系統備註 | 「授課進度」... 等,教師已確認 |
週次 起訖日 |
校務摘要 | 課程進度 |
十八 1000102 1000108 |
3~7日期末考週 | 期末考 |
一 990905 990911 |
6日開學,上午註冊第三節正式上課 6日開學,進修部註冊第二節正式上課 |
宣導尊重智慧財產權,不使用影印本教科書。 課程介紹 |
二 990912 990918 |
16日期初教務會議 | 基本IC 製造流程 |
三 990919 990925 |
22日中秋節放假 | 真空概述與設備 |
四 990926 991002 |
28日教師節 | 半導體製程中的化學物質 |
五 991003 991009 |
第一次月考週 | 氣相沉積設備–CVD薄膜製程設備、PVD薄膜製程設備 |
六 991010 991016 |
10日國慶日 | 氧化及擴散製程設備 |
七 991017 991023 |
蝕刻製程設備 | |
八 991024 991030 |
微影製程與步進機 | |
九 991031 991106 |
1~5日期中考週 | 期中考 |
十 991107 991113 |
11日期中教務會議 12日校慶 |
植入製程設備 |
十一 991114 991120 |
17日校務會議 | 溼式清洗設備 |
十二 991121 991127 |
化學研磨平坦化設備 | |
十三 991128 991204 |
潔淨室與SMIF設備 | |
十四 991205 001211 |
第二次月考週 | IC量測 |
十五 991212 991218 |
IC製程後段設備-1 | |
十六 991219 991225 |
25日行憲紀念日 | IC製程後段設備-2 |
十七 991226 1000101 |
1日開國紀念日 | 學期總論 |